精密 XYステージ、エアベアリング、セラミックス部品、エアスライダのモーショントラスト

半導体製造装置用XYZθチルトステージ

※X軸(上軸)：エアガイド仕様、Y軸(下軸)：リニアガイド仕様の構成となります。

仕様	X軸(上軸)	Y軸(下軸)	Z軸	Θ軸
外形寸法	1,300＊1,400＊410mm
ストローク	400mm	400mm	8mm	±10arcsec
最高速度	300mm/sec	300mm/sec	-	-
最高加速度	0.3G	0.3G	-	-
減速後整定時間	90msec (整定幅0.2μm)	110msec (整定幅0.2μm)	150msec (整定幅0.16arcsec)	20msec (整定幅1μm)
停止時安定性	±0.04μm	±0.02μm	±0.01μm	±0.12arcsec

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半導体検査装置用エアスライダーXYステージ

※精度保証範囲：150mmストローク、速度：100mm/secでの測定値となります。

仕様	X軸(上軸)	Y軸(下軸)
外形寸法	2,000＊1,350＊515mm
ストローク	275mm	225mm
繰り返し位置決め精度	±0.03μm	±0.02μm
真直度(水平)	0.3μm	0.3μm
真直度(鉛直)	0.3μm	0.3μm
ピッチング	0.9秒	0.8秒
ヨーイング	0.8秒	0.3秒
ローリング	1.0秒	1.0秒
停止時安定性	10.75nm(p-p)	16.5nm(p-p)

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半導体製造装置用XYZθステージ(1.5Dエンコーダ搭載)

仕様	X軸(上軸)	Y軸(下軸)	Z軸	Θ軸
外形寸法	1,100＊1,005＊720mm
ストローク	120mm	200mm	5mm	2.0度
繰り返し位置決め精度	±0.032μm	±0.024μm	±0.050μm	±0.069秒
真直度(水平・動的)	0.72μm	0.45μm	-	-
ヨーイング(静的)	1.96秒	0.37秒	2.0秒	-
ローリング(静的)	1.59秒	-	0.20秒	-
停止安定性	-	-	-	±39nm

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PCB製造装置用XYZθステージ

仕様	X軸(上軸)	Y軸(下軸)	Z軸	Θ軸
外形寸法	1,450＊1,650＊1,355mm
ストローク	340mm	390mm	10mm	±1.0度
絶対位置決め精度(補正後)	±0.37μm	±0.10μm	-	-
繰り返し位置決め精度	±0.08μm	±0.02μm	±0.14μm	±0.18μm
真直度(水平)	0.29μm	1.29μm	-	-
ピッチング(静的)	1.09秒	-	-	-
ヨーイング(静的)	0.33秒	-	-	-

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大型PCB製造装置用XYθステージ

仕様	X軸(上軸)	Y軸(下軸)	Θ軸
外形寸法	1,860＊2,270＊1,844mm
ストローク	620mm	1,100mm	±4mrad
繰り返し位置決め精度	±0.069μm	±0.071μm	-
ヨーイング	3.35秒/200mm	1.14秒/200mm	-
ローリング	1.63秒/200mm	2.37秒/200mm	-

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半導体及びMicro LED製造装置用XYステージ(高タクト仕様)

仕様	X軸(下軸)	Y軸(上軸)
外形寸法	-
ストローク	±200mm	±175mm
最大速度	1,500mm/sec
最大(平均)加速度	2G
整定時間(位置決め完了幅±0.25μm)	29.3msec	14.8msec
繰り返し位置決め精度	±0.05μm	±0.03μm
ピッチング	6.04秒	8.89秒
ヨーイング	2.9秒	4.27秒
真直度(鉛直)	1.91μm	4.08μm
真直度(水平)	2.54μm	2.51μm

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