精密 XYステージ、エアベアリング、セラミックス部品、エアスライダのモーショントラスト

株式会社モーショントラスト

精密XYステージ

製品情報

半導体用小型ステージから、液晶用大型ステージまで幅広い製作実績を誇ります。
液晶製造装置用としては、第10世代対応ステージも製作実績があります。

サーフェイス型エアスライダステージ ガントリ駆動型エアスタイダステージ 直交型リニアガイドステージ ガントリ固定型エアスライダステージ

製品画像クリックで、詳細がご覧いただけます。

サーフェイス型エアスライダステージ

☆超精密モデル(用途:半導体用小ストローク検査装置向け)
エアーガイド仕様にて構成した低重心かつ高さを低く抑えた、超精密駆動を追求したステージです。

仕様X軸(上軸)Y軸(下軸)
ストローク400mm400mm
外形寸法1250*1000*270mm
分解能0.4nm
真直度(水平)0.2μm/100mm
真直度(垂直)0.2μm/100mm
ピッチング0.5秒/100mm
ヨーイング0.5秒/100mm
速度安定性±0.05%※1
※1.上記測定は、100mm/sec,0.2msec
サンプリングでのデータとなります。

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ガントリ駆動型エアスライダステージ

☆高真直度・高再現性モデル(用途:液晶用測定装置向け)
エアーガイド仕様にて構成した、長いストローク間のどの場所においても繰り返し再現性の精度を追求したステージです。

仕様X軸(上軸)Y軸(下軸)
ストローク2250mm2700mm
外形寸法3640*4140*2040mm
分解能0.02μm
繰り返し位置決め精度±0.07μm
真直度(水平)3μm/2700mm
真直度(垂直)7μm/2700mm

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直交型リニアガイドステージ

☆高速移動・高速位置決めモデル(用途:液晶用製造装置向け)
リニアガイド仕様にて構成した繰り返し位置決め精度と整定時間を重視し、高タクトを追求したステージです。

仕様X軸(上軸)Y軸(下軸)
ストローク1300mm1700mm
外形寸法3500*3160*1200mm
分解能0.015μm
繰り返し位置決め精度±0.08μm
最高速度1500mm/sec
加減速0.3G
※負荷重量3t
整定時間400msec

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ガントリ固定型エアスライダステージ

☆高精度位置決めモデル(用途:レーザー用加工装置向け)
エアガイド仕様にて構成した、大型ワークの加工を目的とした加工中の過負荷により発生する振動のブレを抑制し、高精度位置決めを追求したステージです。

仕様X軸(上軸)Y軸(下軸)
ストローク2300mm3500mm
外形寸法3500*5000*2600mm
分解能0.015μm
繰り返し位置決め精度±0.2μm
真直度(水平)5μm/3500mm
真直度(垂直)8μm/3500mm
ピッチング3秒/3500mm
ヨーイング1秒/3500mm

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直交型エアスライダステージ

☆超精密モデル(用途:液晶製造装置向け)
直交型両軸エアガイド仕様にて構成した、高精度位置決め且つ、両軸スキャン駆動を追求したステージです。

仕様X軸(上軸)Y軸(下軸)
ストローク690mm1,550mm
外形寸法1,600*1,660mm
繰り返し位置決め精度±0.097μm
整定時間400msec
最高速度500mm/sec
真直度(垂直・水平)±1.2μm
±1.13μm
±2μm
±0.63μm
速度安定性±0.1%
(35mm/sec時)
サンプリング周波数100Hz

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ガントリ駆動型リニアガイドステージ

☆高速位置決めモデル(用途:液晶検査装置向け)
製缶フレーム構造を採用することにより、ローコストでの大型ステージを実現し且つ、高性能を実現しております。

仕様X軸(上軸)Y軸(下軸)
ストローク2,490mm3,106mm
外形寸法3,080*4,000*1,942mm
繰り返し位置決め精度±10μm
最高速度300mm/sec
真直度(垂直・水平)±20μm

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